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  • 5.
  • 半導體產業製程技術項目
  • 製程技術能源使用強度
  • 6吋以下、 8吋產品之 製程技術,頇符合前10%(Top 10)能源使用強度標竿值,如下表:

                          6吋以下註1    8吋註2
    能源使用強度      0.47            0.69

    註1:適用6吋平均光罩層數( mask layer 14以下者。
    註2:適用8吋平均光罩層數( mask layer 15以下者。
    註3:6吋平均光罩層數超過 14層、 8吋平均光罩層數超過 15層者,或因法規限制、專利權保護、國際貿易障礙或其他不可歸責於申請人等因素,致不能符合者,經提出資料佐證,不受其限制。
    註4:能源使用強度計算公式:

    能源使用強度=全場單一尺寸相同製程之年電力使用量(度電)/單一尺寸相同製程之矽晶圓年產出面積(平方公分)

    前述單一尺寸相同製程之矽晶圓年產出面積,計算式為:π×r2 ×矽晶圓產出片數(片),其中π為3.1415926、r 為矽晶圓半徑(公分)。